鍍膜冷水機的工作原理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結晶,由于空氣對蒸發(fā)的膜體分子會產生阻力造成碰撞使結晶體變得粗糙無光,所以須在高真空下才能使結晶體細密光亮;如真空度不高結晶體就會失去光澤結合力也很差,早期的冷水機是依靠蒸發(fā)體自然散射,結合差工效低光澤差,現在森瑞克加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜,解決了過去自然蒸發(fā)無法加工的膜體品種,如鍍鈦鍍鋯等等。
鍍膜冷水機具有立的制冷系統,不會受氣溫及環(huán)境的影響,水溫在5℃ ~30℃ 范圍內調節(jié)控制,因而可以達到高精度、高xiao率控制溫度的目的,設有立的水循環(huán)系統,非常實用。